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5月底金鉬股份公司按照客戶要求成功交付3 套太陽能用成套鉬濺射靶材，該成套靶材的成功交付，使得公司打通了這一高附加值產品從原料制備到成品綁定的成套靶材加工工藝，為進一步的市場開拓奠定了良好的基礎。
新興高端鉬產品 打破國際巨頭壟斷地位
鉬濺射靶材是鉬行業的新興、高端產品，產品要求密度大、純度高、組織均勻、生產工序長，具有很高的技術含量。該領域基本被奧地利的普蘭西（Plansee）、德國的H.C 斯達克(H.C Starck)和賀力氏(Heraeus)、日本的日立金屬(HitachMetal)等國際巨頭所壟斷。公司鉬濺射靶材的成功交付，打破了國外巨頭在該領域的相對壟斷地位。
市場前景廣闊
鉬具有高熔點、高電導率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環保性能，使得鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜，這種濺射薄膜廣泛應用于電子部件和電子產品，如目前廣泛應用的TFT-LCD（thin film transitor-liquidcrystal displays,薄膜半導體管-液晶顯示器）、等離子顯示屏、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置等等，其市場前景十分廣闊。
在平面顯示器行業中，鉬濺射靶材主要應用于TFT-LCD 領域。市場研究表明，未來幾年LCD 仍將快速發展，預計LCD 濺射靶材的消費量年增長率約為20%。
此外，隨著新能源行業的發展，鉬濺射靶在薄膜太陽能光伏電池上的應用也日益增加，鉬濺射靶材主要通過濺鍍形成CIGS（銅銦鎵硒）薄膜電池電極層。
總之，平面顯示器和光伏行業的快速發展，極大地帶動了鉬濺射靶材的市場需求量。
